NUEVA YORK. - El pintor y promotor del arte
dominicano Oscar Abreu inicia sus actividades de 2014 con un novedoso concepto
que une el mundo de la moda al de las artes plásticas, con la participación de
varios diseñadores y una exhibición colectiva, donde se reconocerán varias
personalidades.
Esta nueva propuesta cultural se titulada “Ritmo, Color y Estilo” y contará de
un magnifico desfile de moda en medio de la exhibición de cuadros de
importantes artistas plásticos como Fernando Ureña Rib, Sócrates Márquez, John
Vanmeans, Luigi Jiménez, Dionisio Blanco, Jesús Desangles, Juan Andújar, Pedro
Gallardo, Melchor Terrero, E. Lee White, Aram Musset, Renato Encarnación y
Karima Boutaleb.
Abreu
anunció además que aprovechará la oportunidad para otorgar un reconocimiento
a personalidades como el doctor Ramón
Tallaj, el doctor Eliecer Guzmán, el congresista Charles Rangel, el Empresario
Artististico Felix Cabrera, el dirigente
comunitario Moisés Pérez, La comunicadora Patsi Arias y el Rey de la Radio
Polito Vega, por su grandes aportes sociales y profesionales al desarrollo de la comunidad hispana en
Estados Unidos.
El evento está programado para el próximo jueves 13 de febrero, a partir de las seis de la tarde, en los salones de eventos especiales de Harlem Work Space, ubicado en el 2350 de la Quinta Avenida (esquina 142) Harlem.
De acuerdo
con Abreu, "el público disfrutará de una noche estelar con la presentación
de las últimas tendencias en el mundo de la moda
donde las encantadoras modelos estarán exhibiendo el trabajo de Milagros
Batista, Ona Otite y Epperson”.
Para el evento han sido convocadas reconocidas personalidades de la vida política, social y cultural de la comunidad hispana de Nueva York y otras ciudades.
